출처: Behzad Razavi, Design of Analog CMOS Integrated Circuits, Second Edition
Chapter 2 - Basic MOS Device Physics (pg.26)
2.3. Second-Order Effects
이 단원 전까지는 MOS 구조를 쉽게 이해하기 위해, 실제 아날로그 회로와는 맞지 않는 여러 가지 가정을 붙였습니다.
이 단원에서는 실제 회로 동작에 가깝고, 이후의 회로 분석에 매우 중요한 4개의 second-order effect를 알아볼 것입니다.
바로 body effect, channel-length modulation, subthreshold conduction, punch-through입니다.
이 포스팅에서는 이 중 가장 설명이 간단한 punch-through에 대해 알아보겠습니다.
다른 second-order effect에 대한 내용은 아래 링크들에 정리되어 있습니다.
2024.10.06 - [반도체 소자] - [Razavi][Ch2] MOSFET Second-Order Effects(1) - Body Effect
2024.10.06 - [반도체 소자] - [Razavi][Ch2] MOSFET Second-Order Effects(2) - Channel Length Modulation
2024.10.06 - [반도체 소자] - [Razavi][Ch2] MOSFET Second-Order Effects(3) - Subthreshold Conduction
Voltage Limitations
MOSFET의 terminal 간 전압차들이 특정 값을 넘어가면, MOSFET에 원치 않는 동작이 생깁니다.
Vgs가 높으면, gate oxide가 irreversible하게 무너져(break down) transistor가 망가집니다.
Short-channel device에서는, 매우 큰 Vds가 drain 근처의 depletion region을 넓혀서, depletion region이 source 근처까지 침투하게 됩니다.
그러면 source 근처의 전자가 depletion region을 통해 직접적으로 이동하면서 아주 큰 drain current가 생기는데, 이를 "punch-through"라고 합니다.
Punch-through가 발생하면 Vgs의 값과 관계없이 큰 drain current가 흐르게 되어, 회로 관점에서 부정적인 효과입니다.
Breakdown 없이도, MOSFET의 특성은 terminal 전압차가 특정 값을 넘어가면 영구적으로 바뀔 수 있습니다.
이는 Chapter 17에 자세히 설명됩니다.